可快速同时检测周期表上几乎所有元素
最低的检出限(低至ppq级)
分析效益/成本比最佳
最宽的线性动态范围—可直接检测从ppq到数百ppm浓度
谱线最简单、干扰最小,准确度和精密度好
需要样品量很低(ul至ml),分析速度很快(1~3分钟/样品)
检测模式灵活多样
半导体工业常用材料中超痕量污染物分析:
固体:Si;GaAa单晶切片;石英、碳化硅等炉材料;高纯金属电极等
液体:超纯水;HF;HNO3;HCI;H2SO4;H2O2;氨水等
气体:SiH4;TE0S;NF3;N2等
1、带内置自动进样器的7500ce ICP-MS主机;
2、真空泵;
3、循环制冷机;
4、计算机和软件。